中正联手飞扬,研发出的重叠构架芯片,彻底甩开了EUV光刻机的限制,这意味着芯片领域迎来了一次颠覆性的变革。要知道,5纳米芯片已经快到了制程能力的极限状态,再往前进了不起就是3纳米,然后就没办法进步了,而且5纳米突破到3纳米都不知道需要多久。这就意味着采用更低成本的重叠构架芯片方案,就足以满足现阶段的芯片需求,也意味着EUV光刻机的重要性一落千丈。EUV光刻机的重要性都一落千丈了,EUV光刻胶自然也就没办法保持以前的重要性,甚至因为成本的问题,必然会被飞扬的神秘材料所淘汰。作为生产EUV光刻胶的龙头老大,相信信越化学...